Femtometrix – 光学非可视缺陷检测与先进过程控制的全球领导者

Femtometrix 成立于2011年，是全球光学非可视缺陷（NVD）检测领域的领导者，专注于表面和埋藏缺陷的检测。公司通过其获得专利的Harmonic系列技术，为半导体制造提供全新的计量能力。

核心技术：Harmonic系列采用光学二次谐波生成（SHG）技术。这是一种非破坏性、非接触式的光学表征方法，可用于表征材料表面、界面、薄膜以及体特性。

产品应用：Harmonic系列计量系统使晶圆厂能够通过光学方法检测非可视缺陷（NVD），从而提高良率。这些缺陷包括其他在线工具无法看到的、导致良率下降的非均匀性。该系统可表征关键尺寸、应力/应变、层厚度、电活性杂质、结构缺陷、界面粗糙度和俘获电荷密度。

技术优势：

• 独特的创新技术
• 非破坏性光学技术
• 高灵敏度非可视缺陷检测
• 高在线吞吐量
• 易于使用和解读的软件
• 适用于图案化和非图案化晶圆

公司已获得包括SK海力士、三星风投和NASA/JPL在内的知名机构投资，并与波音公司签订了技术许可协议。